SJ 20636-1997 英文版, SJ 20636-1997 IC用大直径薄硅片的氧、碳含量微区试验方法 - SJ 20636-1997, SJ/T 20636-1997, SJT 20636-1997, SJ20636-1997, SJ 20636, SJ20636, SJ/T20636-1997, SJ/T 20636, SJ/T20636, SJT20636-1997, SJT 20636, SJT20636

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SJ 20636-1997 IC用大直径薄硅片的氧、碳含量微区试验方法 (英文)
标准编号:	SJ 20636-1997	标准状态:	valid 订阅状态变动提醒电子邮箱:
翻译语言:	英文	实施日期:	1997-10-1

标准编号:	SJ 20636-1997
中文名称:	IC用大直径薄硅片的氧、碳含量微区试验方法
英文名称:	Test method for oxygen and carbon contents of large diameter thin silicon wafer in microzone for use in IC
中标分类:	L5971
行业分类:	SJ 电子行业标准
发布机构:	中华人民共和国国家经济贸易委员会
发布日期:	1997-06-17
实施日期:	1997-10-1
标准状态:	valid
翻译语言:	英文

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