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GB/T 34900-2017   微机电系统（MEMS）技术 基于光学干涉的MEMS微结构残余应变测量方法 (英文)
标准编号: GB/T 34900-2017 标准状态:valid 订阅状态变动提醒
翻译语言:英文 实施日期:2018-5-1
标准编号: GB/T 34900-2017
中文名称: 微机电系统（MEMS）技术 基于光学干涉的MEMS微结构残余应变测量方法
英文名称: Micro-electromechanical system technology-Measuring method for residual strain measurements of MEMS microstructures using an optical interferometer
中标分类: L55    微电路综合
行业分类: GB    国家标准
ICS分类: 31.200 31.200    集成电路、微电子学 31.200
发布机构: 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会
发布日期: 2017-11-01
实施日期: 2018-5-1
标准状态: valid
翻译语言: 英文
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