GB/T 41325-2022 英文版, GB/T 41325-2022 集成电路用低密度晶体原生凹坑硅单晶抛光片 - GB/T 41325-2022, GB 41325-2022, GBT 41325-2022, GB/T41325-2022, GB/T 41325, GB/T41325, GB41325-2022, GB 41325, GB41325, GBT41325-2022, GBT 41325, GBT41325

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GB/T 41325-2022 集成电路用低密度晶体原生凹坑硅单晶抛光片 (英文)
标准编号:	GB/T 41325-2022	标准状态:	valid 订阅状态变动提醒电子邮箱:
翻译语言:	英文	文件格式:	PDF

标准编号:	GB/T 41325-2022
中文名称:	集成电路用低密度晶体原生凹坑硅单晶抛光片
英文名称:	Low density crystal originated pit polished monocrystalline silicon wafers for integrated circuit
中标分类:	H82 元素半导体材料
行业分类:	GB 国家标准
ICS分类:	29.045 29.045 半导体材料 29.045
发布机构:	国家市场监督管理总局国家标准化管理委员会
发布日期:	2022-03-09
实施日期:	2022-10-1
标准状态:	valid
翻译语言:	英文
文件格式:	PDF

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